Plazma porlasztásos bevonatoló 3 porlasztási forrással
A VTC-600-3HD háromfejes magnetronos porlasztó bevonatoló berendezés egy általunk újonnan kifejlesztett bevonóberendezés, amely egy- vagy többrétegű ferroelektromos filmek, vezetőképes filmek, ötvözetfilmek, félvezető filmek, kerámia filmek, dielektromos filmek, optikai filmek, oxidfilmek, kemény filmek, PTFE filmek stb. előállítására szolgál. A VTC-600-3HD háromfejes magnetronos porlasztó bevonatoló három célpisztollyal, egy RF tápegységgel a nem vezetőképes anyagok porlasztására, és két DC tápegységgel a vezetőképes anyagok porlasztására van felszerelve.
- Shenyang Kejing
- Senjang, Kína
- 22 munkanap
- 50 szett
- információ
Termékbemutató
A VTC-600-3HD egy saját fejlesztésű, nagyvákuumú vékonyréteg-leválasztó rendszer. Különböző funkcionális vékonyrétegek előállítására tervezték, és lehetővé teszi mind egyrétegű, mind többrétegű szerkezetek kiváló minőségű leválasztását. Ezt a rendszert széles körben használják ferroelektromos filmek, vezetőképes filmek, ötvözetfilmek, félvezető filmek, kerámia filmek, dielektromos filmek, optikai bevonatok, oxidfilmek, kemény bevonatok és PTFE filmek gyártására.
A VTC-600-3HD három porlasztási céltárgyegységgel van felszerelve. Az egyik céltárgyhoz RF tápegység tartozik, amely nem vezetőképes anyagokhoz, például oxidokhoz és kerámiákhoz alkalmas, míg a másik két céltárgyat egyenáramú tápegységek hajtják, amelyek vezetőképes anyagokhoz, például fémekhez használhatók. Ez a konfiguráció széleskörű anyagkompatibilitást kínál.
A hasonló rendszerekhez képest ez a modell kompakt kialakítással, racionális felépítéssel és felhasználóbarát működéssel rendelkezik, miközben kiváló multifunkcionális integrációt kínál. Különösen alkalmas kutatólaboratóriumok számára, amelyek új anyagrendszerek, például szilárdtest elektrolitok és OLED eszközök fejlesztésével és folyamatvizsgálatával foglalkoznak. A VTC-600-3HD ideális laboratóriumi méretű magnetronos porlasztási rendszerként szolgál a fejlett vékonyréteg-kutatáshoz.
Főbb jellemzők
1. Három célpisztollyal van felszerelve, egy RF tápegységgel nem vezetőképes anyagok porlasztásos bevonatolására, és két DC tápegységgel vezetőképes anyagok porlasztásos bevonatolására szolgál (a célpisztollyal az ügyfél igényei szerint lehet cserélni).
2. Különféle vékonyrétegek állíthatók elő széles alkalmazási körrel.
3. Kis méret és könnyen kezelhető
4. A teljes gép moduláris felépítése; a vákuumkamra, a vákuumszivattyú-csoport és a vezérlő tápegység különálló/osztott kialakítása, amely a felhasználók tényleges igényeihez igazítható.
5. A tápegység a felhasználó tényleges igényei szerint választható ki. Egyetlen tápegység több célfegyvert is vezérelhet, vagy több áramforrás egyetlen célfegyvert is vezérelhet.
TMűszaki paraméterek
Termék neve | VTC-600-3HD háromfejes magnetronos porlasztó bevonatoló | ||
Termékmodell | VTC-600-3HD | ||
| Telepítési feltételek | 1. Környezet：Környezeti hőmérséklet: 25℃ ±15℃; Páratartalom: ≤55%RH ±10%RH. A környezetnek száraznak, pormentesnek és gyúlékony vagy robbanásveszélyes gázoktól mentesnek kell lennie. 2. Vízellátás: KJ-5000 önkeringető hűtővel felszerelve, tisztított vagy ioncserélt vízzel. 3. Tápegység：Egyfázisú AC 220V 50Hz, 10A, 16A-es megszakítóval az elejére szerelve. 4. Gázigény：Argongáz (tisztaság ≥99,99%) szükséges. A felhasználónak elő kell készítenie egy Ø6 mm-es dupla gyűrűs csatlakozóval és nyomásszabályozóval ellátott argonpalackot. 5. Munkapad követelményei：Javasolt egy stabil munkapad, amelynek méretei H1300 mm × Sz750 mm × M700 mm, teherbírása ≥200 kg. 6. Szellőzés：A telepítési helyen megfelelő szellőzést kell biztosítani; szükség esetén további légcsere vagy elszívó rendszer telepíthető. | ||
Főbb paraméterek (Specifikáció) | Kategória | Specifikáció | Megjegyzések |
Vákuumrendszer | Vákuumkamra mérete: φ295 × H265mm | Rozsdamentes acél kamra kiváló korrózióállósággal | |
Vákuumszivattyú készlet: · Molekuláris pumpa：Hipace80 Turbomolekuláris szivattyú · Előszivattyú：MVP015-2DC Membránszivattyú | Eredeti Pfeiffer rendszer nagy szivattyúzási hatékonysággal | ||
Alap vákuum：5.0E-3Pa (5.0E-5hPa) | Alapvákuum a lerakódás előtt | ||
Végső vákuum：5.0E-4Pa (5.0E-6hPa) | A környezet és a tömítés minősége befolyásolja | ||
| Üzemi nyomás: 0,1~5 Pa (0,001~0,05 hPa) | Főként argon, reaktív gázok opcionálisan | ||
Szivattyúzási sebesség: · Előszivattyú：1 m³/h · Molekuláris szivattyú：67 L/s | Meghatározza a porszívózási idő hatékonyságát | ||
| Tápegység konfigurációja | Teljesítmény típusa és mennyisége： · DC (egyenáram): 2 egység | Az egyenáramot fémes céltárgyaknál, az RF-t pedig szigetelő céltárgyaknál használják. | |
Kimeneti teljesítménytartomány: · Egyenáram: 0~500W · Rádiófrekvenciás：0~300W | Állítható teljesítmény különféle anyagokhoz | ||
| Illesztési impedancia: 50 Ω | Stabil és hatékony erőátvitelt biztosít | ||
Gázszabályozás | Munkagáz：Standard konfiguráció — Argon (Ar) | ≥99,999 tisztaságú argon használata ajánlott. | |
| Gázáramlás (2 csatorna)： · 1. csatorna: 1–100 sccm | Kettős, független tömegáramú csatornák, más gázokhoz is testreszabhatók | ||
Áramlásmérő pontossága: ±1% FS | Nagy pontosságú MFC rendszer | ||
Forgó mintaasztal | Színpadméret: Ø132 mm (≈5,2 hüvelyk) | Többféle hordozómérettel kompatibilis | |
Forgási sebesség: 1–20 fordulat/perc | Javítja a fólia egyenletességét | ||
| Fűtési hőmérséklet: RT – 500°C | Aljzatfelület-fűtés állandó hőmérséklet-szabályozással | ||
THőmérséklet pontossága: ±1°C | PID hőmérséklet-szabályozó rendszer | ||
| Magnetron célpontok | Célzott mennyiség: 3 db | Egyenként vagy egyszerre működtethető | |
· Célméret: Ø2 hüvelyk · Vastagság: 0,1–5 mm | A vastagság anyagonként változik | ||
| Cél-hordozó távolság：85–115 mm, állítható | A nagyobb távolság javítja az egyenletességet, kissé csökkenti a sebességet | ||
| Hűtési módszer: Vízhűtés | A keringtető hűtőrendszer védi a célhőmérsékletet | ||
Lerakódási teljesítmény és egyéb | Film egyenletessége: ±5% (Ø100 mm hordozófelület) | Főként a cél-hordozó távolság és a forgási sebesség határozza meg | |
Filmvastagság tartomány：10 nm–10 μm | A túlzott vastagság feszültségrepedéseket okozhat | ||
Max. Teljesítményfelvétel: · főegység: 500 W; · RF tápegység：1100 W； · Egyenáramú tápegység：750 W | Független tápegységek a főegységhez, az RF, DC és a vastagságmérőhöz. | ||
| Bemeneti teljesítmény： · Egyfázisú：AC220V 50/60Hz | Megfelelő földelést igényel | ||
| Fő egység méretei： · 600 mm × 750 mm × 900 mm | Magasság nyitott fedéllel: 1050 mm | ||
Teljes méretek: · 1300 m × 750 mm × 900 mm | Tartalmazza a vezérlő- és szivattyúterületet | ||
| Teljes súly：160kg | Hűtőrendszer nélkül | ||
Standard tartozékok
Nem. | Név | Mennyiség | Kép |
| 1 | DC tápegység-vezérlő rendszer | 2 szett | - |
| 2 | RF tápegység-vezérlő rendszer | 1 készlet | - |
| 3 | Filmvastagság-ellenőrző rendszer | 1 készlet | - |
| 4 | Molekuláris szivattyú (német import vagy nagyobb szivattyúzási sebességű hazai) | 1 egység | - |
| 5 | Hűtő | 1 egység | - |
| 6 | Poliészter PU cső (Ø6mm) | 4 méter | - |
Opcionális tartozékok
| Nem. | Név | Funkciókategória | Kép |
| 1 | Különböző céltárgyak (arany, indium, ezüst, platina stb.) | Választható | - |
| 2 | Erős mágneses céltárgy (ferromágneses anyagok porlasztásához) | Választható | - |
| 3 | Maszk | Választható | - |
| 4 | Rezgő mintaasztal | Választható | - |
| 5 | Kétrétegű forgó bevonóberendezés | Választható |  |
Garancia
Egy év korlátozott élettartamra szóló támogatással (a nem megfelelő tárolási körülmények miatt rozsdásodott alkatrészek kivételével)
Logisztika
