-
Nagy vákuumú, plazmával javított vegyi gőzleválasztási rendszer (PECVD)
A párhuzamos lemezes kapacitív PECVD egy olyan technológia, amely plazma segítségével aktiválja a reaktív gázokat, hogy elősegítse a kémiai reakciókat a hordozó felületén vagy a felszínhez közeli térben, és szilárdtest filmeket képezzen. A plazma kémiai gőzleválasztási technológia alapelve, hogy nagyfrekvenciás vagy egyenáramú elektromos tér hatására a forrásgáz ionizálódik, hogy plazmát képezzen, és az alacsony hőmérsékletű plazmát használják energiaforrásként, megfelelő mennyiségű reaktív gázt. bevezetik, és a plazma kisülést a reaktív gáz aktiválására használják, és kémiai gőzlerakódást képeznek.
Send Email Részletek -
Szférikus pulzáló lézeres leválasztó rendszer
Ez a rendszer egy kutatási és fejlesztési berendezés gömbpulzusos lézeres leválasztási rendszerhez (PLD). Az impulzusos lézeres leválasztási technológiát széles körben használják, és különféle anyagok, például fémek, félvezetők, oxidok, nitridek, karbidok, boridok, szilicidek, szulfidok és fluoridok vékony filmjei készíthetők vele. Még néhány nehezen szintetizálható anyagfilm, például gyémánt és köbös nitrid filmek készítésére is használják.
Send Email Részletek
