Belső oldal

hírek

Mik azok a tényezők, amelyek befolyásolják a nagyvákuumú mágneses porlasztást?

Az alapvető magnetronporlasztás alapján nagy vákuum és magas hőmérsékletű növekedési környezetet vezetnek be, és a plazmatechnológiát kombinálják a reaktív lerakódás reakcióhatékonyságának javítása érdekében, hogy megvalósítsák a magnetronos porlasztó film epitaxiáját. Az ilyen nagy vákuum alatt készített film jobb rácsorientációval és kiemelkedőbb kristálytulajdonságokkal rendelkezik. Alkalmazásának széles skálája van szupravezető kvantumokban, ferroelektromos anyagokban, piezoelektromos anyagokban, termoelektromos anyagokban és más területeken. A nagy vákuum állapot segít csökkenteni a szennyeződések hatását, és biztosítja, hogy a porlasztott részecskék ne reagáljanak károsan más gázokkal a leválasztási folyamat során.

2025/03/20
OLVASS TOVáBB
Szerezd meg a legújabb árat? A lehető leghamarabb válaszolunk (12 órán belül)
This field is required
This field is required
Required and valid email address
This field is required
This field is required
For a better browsing experience, we recommend that you use Chrome, Firefox, Safari and Edge browsers.